第88章 绝对的世界领先（2/2）

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实验楼一楼。

这里整层都被改造成芯片实验室，已经小批量的在试生产芯片了。

刘彬作为真理半导体的负责人，从晶圆的加工设备开始，一路带着大家观看切割、研磨等各个工序。

然后是光刻、刻蚀、沉积...直到封装测试的整个工艺流程。

穿着防护服的刘彬，指着刚刚完成封装的一批45纳米制程芯片，大声的宣讲着：

“各位领导，各位专家，硅晶的制备设备我们也已经制造完毕，但在实验楼不好部署展示。”

“目前能看到的工艺流程中，包括EDA芯片设计软件，掩膜板的制作，光刻机以及重要的耗材等，这些核心设备全都是我们独自研发，次要设备是在国内相关厂家定制的，整个芯片制造产线可以说是100%夏国制造！”

他的话音刚落，领导和专家团便激动的鼓起了掌！

整个参观过程大家都是静默的，谁也没想到这个面积庞大的实验室里，如此先进的设备竟然都是自研的。

那台名为ZL400的浸没式DUV光刻机，采用了193纳米ArF光源，这可是比荷兰ASML公司正在研发的XT1900i，更早实现了量产45纳米制程芯片啊。

而最牛X的是，真理科技竟然同时研发出生产5纳米以下芯片的EUV光刻机，虽然目前光源曝光率还比较低，但这可是世界独创！

惊叹过后，专家都在围着真理科技的研究员们，询问相关的技术问题，也有不少人在测试机上查看产出芯片的参数。

而来自某光学研究所的李工，却拉着刘彬走到一旁，询问EUV光刻机中的紫外线是靠什么产生的。

刘彬笑道：“李工，我们林总亲自设计了一款激光放大器，将较弱的激光脉冲提升至一万次，最终输出的平均脉冲功率稳定在25千瓦，这才基本满足了光刻所需的极紫外线，后续我们的目标是40千瓦。”

李工点点头道:“这已经很不容易了，那你们的发射器的光学组件也是自己制造的吗？”

“是的，从OLED 屏幕真空蒸镀机延伸出的镀膜技术。”刘彬想到林畅的嘱咐，回答的很干脆。

参观完实验室后，众人来到工厂一处办公楼的会议室。

赵主任和平原省一把手王石故意坐在最后面一排，把前面位置让给专家团们。

“石港同志，我得先道个歉，之前否了你们省里申请的扶持政策，是我先入为主了。”