第三百五十一章 投影式光刻技术（1/2）

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晚上十二点，整个江夏电子厂的大部分车间都已经黑漆漆一片，只有值夜班的保卫科人员，在打着手电筒来回巡逻。

然而只在芯片车间所在的西北角，这里仍然灯火通明，那为了避免干扰光刻而独有的黄光，代表里面仍然处于紧张的工作状态，那黄澄澄如同雾蒙蒙一般的光晕，似乎也预示着光刻作为顶尖精密制造的神秘。

车间办公室里，总工程师张本松和一众工程师都围坐在桌前开会。

“的确这种投影式光刻机对比之前的接触式光刻机提高了相当大精度，而且采用凹透镜和凸透镜相结合的高斯型镜头，也能消除大部分场曲和像差。”

“除此之外还有光掩模的制作，以及烘焙刻蚀这些，也基本和接触式光刻步骤一样，不需要我们额外掌握，甚至于由于光掩模无需再直接接触光刻胶，烘焙的精度也变得不那么重要，这是我们的优势。”

“但同时我们也必须注意到，由于接触改投影，我们也面????????????????临光刻方面的新问题，首当其冲的就是光衍射问题……”

还是那个最烦人的原理，光不是沿一条直线传播，而是具有波粒二象性，尤其在通过窄缝以后，这种衍射现象更加严重。

“虽然经过今天一天的测试，以及和江夏电子厂的同志，还有远在宁海的同志交流以后，对我们有很大的启发，我们也收获了相当不错的成果，但这还远远不够，我希望大家明天能再接再厉，早日攻克投影式光刻技术！”

张本松看了一眼墙上的时钟，然后告诉大家今天时间已经很晚，示意大家都回去休息：“我知道大家都很为技术着急，但攻克技术并不是一朝一夕的事，身体才是革.命的本钱，大家都休息好了，才能以更加饱满的状态迎接新的挑战！”

总结完然后散会，一众技术工人和工程师们先行离开，张本松留在最后。

有人劝张本松也先去休息，但张本松却总是笑着表示：“我就差最后一点没记录完，这种事情可不能拖，你们先回去休息吧，我记录完就休息。”

张本松继续埋头，虽说他的右手经过医院的诊治已经好的差不多了，但仍然不好握笔，因此影响他记录工作。

很快一个小时过去，当张本松完成对今天工作的记录，他却没有离开办公室去休息，而是走向芯片车间，撕下自己记录的那张纸贴在洁净室外面的玻璃上。

这是张本松他们的常规操作，由于要确保洁净室内的绝对干净，因此就连纸张他们也避免带进去，但同时他们又需要根据自己的运算做出调整，只好从外面贴在玻璃上，将玻璃当成提示板用了。

熟练的取出一张打磨好的硅晶圆，按照步骤清洗涂胶烘焙。

尽管这些都是从接触式光刻沿用下来的步骤，张本松都做过好几十次，但他仍然小心翼翼，确保每一步都准确无误。

很快三个小时过去，当张本松带着隔热手套从烤箱里取出烘焙好的硅晶圆时，就听洁净室的玻璃杯轻轻敲响，张本松转头就看到几张熟悉的脸孔，那是自己手底下学习最认真的工程师和技术工人。

为了避免说话飞沫污染洁净室，张本松打手势询问他们怎么这么早就来了，现在天亮了吗？

外面的工程师写字条高速张本松现在才只凌晨四点，他们是因为睡不着才想着过来车间再做一遍测试，好为白天收集更多的数据。

张本松想喊他们回去休息，可伸出洁净室，手上还拿着硅片，他没办法，只好指了指自己粘在玻璃上的纸条，反正这些人来都来了，就让他们进来帮帮忙吧。

张本松走到门口告诉他们自己认为提高投影式光刻的精度跟控制光照时间和光刻次数有关。

“虽说光刻就像照相一样瞬间就能完成，但并不意味着光刻就整体完成，他可能存在光刻不到位的问题，可如果我们提高光照时间和次数，可能又会带来新的衍射以及过度曝光等问题，我们现在就是要????????????????找到最适合的工艺因子。”

用嘴简单的话语讲解了自己的想法，然后张本松才放其他工程师进来，他们把烘焙好的硅片固定在光刻机上，然后启动光刻，按照张本松的想法进行反复曝光。

这一次他们失败了，硅片在经过刻蚀以后张本松发现在进行了过度曝光后，光刻胶受到很大影响，导致不该被光刻的地方也受到了衍射曝光。

早上方焕志亲自为他们送来早餐，见张本松他们居然一晚上没睡，方焕志严厉批评了张本松。